1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン（TMDSO）

1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン／TMDSOは水素末端型シロキサンダイマーであり、その化学的特性上、反応サイトを提供するヒドリド基を含有しています。このため、熱または金属触媒と組み合わせることで、TMDSOはビニル基またはヒドロキシル基官能性ポリシロキサンを含む様々な物質と反応することができます。.

1. 官能性末端基を有するポリシロキサンの合成（ブロックシリコーンオイルなど）。.

2. 高性能有機シリコーン界面活性剤の調製。.

3. シリコーンゴム、シリカゲル、水素化ポリシロキサン、プラスチック、樹脂改質剤、デンドリマーポリマー特殊添加剤など、多様な製品の製造。.

1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンはシリコーン誘導体であり、これがシリコーンポリマーやシリコーン樹脂を調製するためのモノマーとして使用できる主な理由です。他のシリコーン化合物を調製する中間体としても利用可能です。TMDSOは非水系ポリマーや実験室試薬の調製にも用いられます。有機合成においては、白金触媒によるカルボキサミドのアミンへの還元や、Au/TiO2触媒によるカルボニル化合物のヒドロシリル化（アルデヒドやケトンの還元など）において、単一ヒドロシランに比べて効果的な還元剤として機能します。さらに、臭化インジウム（InBr3）を触媒として用いることで、TMDSOはカルボン酸を直接ブロモ化することも可能です。.

4. 医薬品中間体として。.

5. CVDおよびALD前駆体。.

原子層堆積（ALD）は、連続的な気相化学プロセスに基づく化学的自己制限堆積技術です。薄膜（1サイクルあたり約0.1Åの精度）は、所定の厚さを達成するために繰り返し堆積されます。この薄膜の主な特徴は、等角性と制御可能な堆積モードにあります。前駆体の選択はALDプロセスの鍵であり、必要な薄膜を生成するのに十分な反応性を持ちながら、取り扱いや反応室への安全な輸送に十分な安定性を維持できる分子を見つける必要があるためです。すなわち、TMDSOはこのプロセスの完遂に寄与することができます。.

6. 繊維、紙、皮革の防水剤として使用。.