1,1,3,3-tétraméthyldisiloxane (TMDSO)

Le 1,1,3,3-Tétraméthyldisiloxane / TMDSO est un dimère siloxane à terminaison hydrogène, qui contient un groupe hydrure qui fournit un site de réaction pour ses propriétés chimiques. Par conséquent, en combinaison avec des catalyseurs thermiques ou métalliques, le TMDSO peut réagir avec diverses substances contenant des polysiloxanes à fonctionnalités vinyle ou hydroxyle.

1. La synthèse de polysiloxane contenant des groupes terminaux fonctionnels (tels que l'huile silicone en bloc, etc.).

2. La préparation de surfactants organosilicones haute performance.

3. La production de nombreux produits, tels que l'ajout de caoutchouc silicone, gel de silice, polysiloxane d'hydrogène et modificateur de plastique, de résine, additifs spéciaux pour polymères dendritiques, etc.

Le 1,1,3,3-Tétraméthyldisiloxane est un dérivé silicone, ce qui est la principale raison pour laquelle il peut être utilisé comme monomère pour préparer des polymères silicones ou des résines silicones. Il peut être utilisé comme intermédiaire pour préparer d'autres composés silicones. Le TMDSO est également utilisé dans la préparation de polymères non aqueux et de réactifs de laboratoire. En synthèse organique, il peut être utilisé comme agent réducteur efficace pour la réduction catalysée au platine de carboxamides en amines et l'hydrosilylation catalysée par Au / TiO2 de composés carbonylés (comme la réduction d'aldéhydes ou de cétones) par rapport au monohydrosilane. De plus, en utilisant le bromure d'indium (InBr3) comme catalyseur, le TMDSO peut également bromer directement les acides carboxyliques.

4. Dans les intermédiaires pharmaceutiques.

5. Précurseurs CVD & ALD.

Le dépôt par couches atomiques (ALD) est une technique de dépôt chimique auto-limitante basée sur l'utilisation continue de procédés chimiques gazeux. Le film mince (aussi fin que ~0,1 Å par cycle) est déposé de manière répétée selon les besoins pour atteindre une épaisseur spécifique. Les principales caractéristiques du film sont le mode de dépôt conforme et contrôlable. La sélection du précurseur est la clé du procédé ALD, car il faut trouver des molécules avec une réactivité suffisante pour produire le film requis, mais qui peuvent maintenir une stabilité suffisante pour être manipulées et transportées en toute sécurité vers la chambre de réaction. C'est-à-dire que le TMDSO peut aider à accomplir ce processus.

6. Utilisé comme agent hydrofuge pour les textiles, le papier et le cuir.